重塑千禧年代 第1099节（1 / 5）

可是，胡正明和梁孟淞这两位摆在面前，那要怎么判断？

方卓对涉及技术的情况还有粗糙的一招，看看龙头企业怎么选。

但是，这一招现在也失效了，因为，台记看起来也存在犹豫，它过去一直支持gate-first，去年却又表态支持gate-last工艺。

然而，据一些消息披露，台记LP、HP、HPL中也不全是采用gate-first，而是两种方案掺杂着使用。

当追赶到一定的距离，跟随策略也值得商榷。

一月份剩余的事务安排，方卓把时间都留给了各家的业务和问题梳理，其中有个越来越让他头疼的问题在于，冰芯内部对于接下来的技术路线有了分歧。

冰芯2009年年度的预算很充足，先进制程的研发不是线性，如今的45nm还在进一步做良率爬升，继续展望的32nm和28nm在材料工艺和技术解决方案上就有些激烈的讨论。

32nm相较于45nm，是在它的基础上改换更好的材料，继续了缩小尺寸的老路，一方面，冰芯有在使用前代的Ge strain工艺，另一方面也在研究第二代high-k绝缘层/金属栅工艺，以达到更好的效果。

而28nm基本就是晶体管平面结构的最后节点，接下来的3D晶体管FinFET、折中的FD-SOI、平面体硅三种技术路径，冰芯在拥有胡正明和梁孟淞两员大将的情况下必定直奔FinFET。

但是，他们两位在28nm的工艺方案上就有些分歧。

方卓从去年就听梁孟淞简单谈过一次这种技术观点的分歧，这个月再看两边不同的阐述，随着研发的进展，各自的优点看起来都很有道理。

这种局面如何定音？

方卓左想右想，首先是自己不能作为技术决策的推手，容易伤害到内部情绪，其次是再多方论证，冰芯之前加入了包含IBM、特许、英飞凌、三星和飞思卡尔的技术联盟，多多交流或许还能有所进益。

如果外部交流加内部研究能推出一个统一的意见，即便错了，保持原有的劲头和氛围就当是经验教训了，总能再继续出发。

方卓把期望的底线放低，尽量往乐观想，最起码现在和近期都还是没问题的。

准确的说，是梁孟淞与邱慈云、胡正明在前、后闸极方案上的意见很不同。

梁孟淞团队倾向于后闸极gate-last方案，邱慈云、胡正明他们倾向于前者gate-first。

前闸极方案是IBM为首的技术工艺，后闸极方案则是Intel公司。

这种技术争端是让方卓最无计可施的，钱都好说，技术领域……他向来是尊重专业人士。

当专业人士有不同意见……他向来是尊重最专业的人士……